24 августа 2022 Способ получения нового материала - силицен

Сотрудники ресурсного центра "Физические методы исследования поверхности" Жижин Е. В. и Пудиков Д. А. совместно с сотрудником кафедры электроники твердого тела Комоловым А. С. разработали технологию получения монослойного силицена с использованием оборудования ресурсного центра. Подобный материал впервые на практике получен в СПбГУ. Силицен является кремниевым аналогом графена: это материал, имеющий такую же кристаллическую структуру, но состоящий из атомов кремния. В последнее время начали появляться теоретические работы, показывающие схожесть этих материалов относительно параметров электронной структуры, из-за которых такую большую популярность приобрел графен: у обоих есть Дираковский конус электронных состояний в K точке зоны Бриллюэна, а перенос заряда осуществляется безмассовыми фермионами. Однако вследствие нестабильности монослоя атомов кремния успешных способов производства силицена на настоящий момент известно достаточно мало.
Согласно технологии синтез проводится методом молекулярно-лучевой эпитаксии на системе Ag(111)/W(110). Полученный силицен имеет достаточно большие размеры отдельных доменов (до 100 нм).

За разработанную технологию авторам выдан российский и евразийский патент.