Настоящая методика основана на экспериментальной регистрации с использованием метода фотоэлектронной спектроскопии с угловым разрешением (ФЭСУР) проявления квантово-размерных эффектов в тонких слоях металлов на поверхности монокристаллов непрерывно в течение увеличения толщины напыляемой пленки, начиная с субмонослойных толщин. Толщина пленки может быть оценена с точностью до десятых долей монослоя и контролируема, исходя из наблюдаемого спектра квантовых электронных состояний по их энергии и количеству. Данная методика может быть использована при производстве прецизионных квантовых устройств наноэлектроники и новых наноструктурированных материалов.
