Рабочая станция электронной и ионной литографии реализует методики электронной и ионной микроскопии, литографии сфокусированным ионным пучком, электронной литографии, вторичной ионной масс-спектрометрии, а также позволяет выполнять подготовку образцов для просвечивающей электронной микроскопии.
Технические характеристики электронной колонны:
- - Энергия электронов – 0.1-30 кэВ.
- - Разрешение электронной колонны – 1.1 нм при 20 кэВ.
- - Ток электронного пучка – 4 пА - 40 нА.
Технические характеристики ионной колонны:
- - Энергия ионов Ga+ – 2-30 кэВ.
- - Разрешение ионной колонны – 8 нм при 30 кэВ, 1 пА.
- - Ток ионного пучка – 1 пА - 50 нА.
- - Микроманипулятор Kleindiek.
- - Внешний блок развертки Raith Elphy PLUS.
- - Система напуска газов.
- - Масс-спектрометр вторичных ионов.