Рабочая станция электронной и ионной литографии реализует методики электронной и ионной микроскопии, литографии сфокусированным ионным пучком, электронной литографии, вторичной ионной масс-спектрометрии, а также позволяет выполнять подготовку образцов для просвечивающей электронной микроскопии.

Zeiss Crossbeam 1540XB

 

Технические характеристики электронной колонны:

  • - Энергия электронов – 0.1-30 кэВ.
  • - Разрешение электронной колонны – 1.1 нм при 20 кэВ.
  • - Ток электронного пучка – 4 пА - 40 нА.

Технические характеристики ионной колонны:

  • - Энергия ионов Ga+ – 2-30 кэВ.
  • - Разрешение ионной колонны – 8 нм при 30 кэВ, 1 пА.
  • - Ток ионного пучка – 1 пА - 50 нА.
  • - Микроманипулятор Kleindiek.
  • - Внешний блок развертки Raith Elphy PLUS.
  • - Система напуска газов.
  • - Масс-спектрометр вторичных ионов.

Сайт производителя.