Рабочая станция электронной и ионной литографии реализует методики электронной и ионной микроскопии, литографии сфокусированным ионным пучком, электронной литографии, вторичной ионной масс-спектрометрии, а также позволяет выполнять подготовку образцов для просвечивающей электронной микроскопии.

Zeiss Crossbeam 1540XB

 

Технические характеристики электронной колонны:

- Энергия электронов - 0.1-30 кэВ.

- Разрешение электронной колонны - 1.1 нм при 20 кэВ.

- Ток электронного пучка - 4 пА - 40 нА.

Технические характеристики ионной колонны:

- Энергия ионов Ga+ - 2-30 кэВ.

- Разрешение ионной колонны - 8 нм при 30 кэВ, 1 пА.

- Ток ионного пучка - 1 пА - 50 нА.

- Микроманипулятор Kleindiek.

- Внешний блок развертки Raith Elphy PLUS.

- Система напуска газов.

- Масс-спектрометр вторичных ионов.

Сайт производителя.