Методика исследования микрорельефа поверхности проводящих образцов, основанная на анализе вторичных электронов, генерируемых ускоренным электронным лучом; предельное латеральное разрешение достигает единиц нанометров.

Методика исследования микрорельефа поверхности проводящих образцов, основанная на анализе вторичных электронов, генерируемых пучком ускоренных ионов галлия (Ga); предельное латеральное разрешение достигает нескольких нанометров.

Методика исследования, основанная на анализе масс-спектра вторичных ионов,  генерируемых в процессе локального распыления образца сфокусированным пучком ионов галлия, квадрупольным масс-спектрометром с предельным спектральным разрешением 0.1 а.е.м.

Методика исследования электрофизических параметров образцов, основанная на измерении эффекта Холла.

Метод наноструктурирования поверхности проводящего образца, основанный на распылении участков образца сфокусированным пучком ускоренных ионов галлия; минимальный размер структурного элемента достигает нескольких десятков нанометров.

Метод наноструктурирования поверхности проводящего образца, основанный на травлении участков образца через полимерную маску; формирование маски осуществляется при помощи локальной засветки сфокусированным пучком ускоренных электронов; минимальный размер структурного элемента достигает нескольких десятков нанометров.

Метод наноструктурирования поверхности проводящего образца, основанный на травлении участков образца через полимерную маску; формирование маски осуществляется при помощи локальной засветки сфокусированным пучком лазера (длина волны 405 нм); минимальный размер структурного элемента достигает трёх микрометров.

Метод наноструктурирования поверхности, основанный на распылении образца потоком ионов аргона; размер структурного элемента определяется нанесённой маской; возможно реактивное травление с использованием хлора для структур на базе GaAs и CF4 для кремния.

Метод подготовки поверхности образцов, основанный на воздействии аргоновой и/или кислородной плазмы на поверхность, что приводит к удалению органических загрязнений и приданию поверхности гидрофильных свойств.

Метод нанесения тонких плёнок металлов (алюминий, медь, золото) на поверхность образца.