Leica EM BAF060 и Leica EM VCT-100 – устройство для замораживания/скалывания и высокоуглового напыления с системой вакуумного криопереноса.

Прибор может быть использован для:

• замораживания-скалывания эмульсий, жидкостей, гелей и суспензий;
• замораживания-скалывания клеточных суспензий, тканей, витрифицированных замораживанием под высоким давлением;
• сублимационной сушки клеточных суспензий и тканей, витрифицированных замораживанием под высоким давлением;
• сублимационной сушки вирусов, мембран, клеточных компонент, витрифицированных замораживанием на сеточках;
• сублимационной сушки мембран, клеточных компонент, вирусов и двуосевого ротационного напыления (double-axis rotary shadowing, DARS);
• замораживания-скалывания-травления для крио-СЭМ.

 

Размещение: Василеостровская площадка.

Статус: оборудование недоступно.

 

leica-em-baf060.jpgleica-em-vct100.jpg

Основные технические характеристики

Напыление углеродом / металлами для высокоразрешающих TEM / SEM анализов таких, как: 

  • • реплики,
  • • крио SEM,
  • • рентгеновский микроанализа (EDX – энергодисперсионного элементного анализа, WDX – волнодисперсионного элементного анализа).

В состав комплекса входит интегрированная система криопереноса Leica EM VCT100, совместимая с установленным сканирующим микроскопом  Tescan MIRA3, позволяющая осуществлять перенос препарата в вакууме при криогенной температуре без контаминации между сканирующим электронным микроскопом и системой замораживания-скалывания и напыления. 

Ручная или автоматическая подача ножа шаговым двигателем – в диапазоне от 1 мкм до 40 мкм. 
Универсальный нож с прецизионным позиционированием, позволяющий работать одновременно с тремя образцами. 
Два независимо управляемых электронно-лучевых источника – для создания многослойных реплик за один цикл. 
Электронное управление углами пучков источников – от 0°С до 90°С. 
Низкий угол затенения для высококачественного покрытия очень малых структур, таких как ДНК – до 0°. 
Вращение образцов во время нанесения покрытия. 
Предварительная настройка отдельных параметров электронных пучков испарителей. 
Использование напыления: Pt-C, Ta-W, Cr, Pt-Ir-C или C. 
Точный автоматический контроль толщины пленки и прекращения напыления регулируется до 1 нм. 
Функции запоминания параметров для нанесения не менее 5-ти слоев с независимыми значениями толщины. 
Программируемая последовательность нанесения нескольких слоев покрытия. 
Встроенная библиотека для нескольких материалов покрытия. 
Активная насосная система непрерывной дозированной подачи жидкого азота без колебаний температуры. 
Турбомолекулярный и мембранный насос с прецезионной диафрагмой для создания "безмасляного" вакуума. 
Глубокий вакуум с контролем и отображением параметров на дисплее. 
Механизм предохранения образцов от загрязнений. 
Сублимация при низкой температуре вплоть – до температуры жидкого азота. 
Функция быстрой подачи LN2 (жидкого азота) в реакционную зону.
Программируемые параметры нанесения покрытия.
Светодиодная подсветка.

Стереомикроскоп для наблюдения за пробоподготовкой образца: 
- общее увеличение в диапазоне – от 3.2х до 20х; 
- поле на объекте в диапазоне – от 11.5 мм до 71.9 мм.