Leica EM BAF060 и Leica EM VCT-100 – устройство для замораживания/скалывания и высокоуглового напыления с системой вакуумного криопереноса.

прибор может быть использован для:

      • замораживания-скалывания эмульсий, жидкостей, гелей и суспензий

      • замораживания-скалывания клеточных суспензий, тканей, витрифицированных замораживанием под высоким давлением

     • сублимационной сушки клеточных суспензий и тканей, витрифицированных замораживанием под высоким давлением

     • сублимационной сушки вирусов, мембран, клеточных компонент, витрифицированных замораживанием на сеточках 

      • сублимационной сушки мембран, клеточных компонент, вирусов и двуосевого ротационного напыления (double-axis rotary shadowing, DARS)

      • замораживания-скалывания-травления для крио-СЭМ

Размещение: василеостровская площадка

Статус: оборудование недоступно

 

leica-em-baf060.jpgleica-em-vct100.jpg

Основные технические характеристики

Напыление углеродом / металлами для высокоразрешающих TEM / SEM анализов, таких как: 

      • реплики

      • крио SEM

      • рентгеновский микроанализа (EDX — энергодисперсионного элементного анализа, WDX — волнодисперсионного элементного анализа).

В состав комплекса входит интегрированная система криопереноса Leica EM VCT100, совместимая с установленным сканирующим микроскопом  Tescan MIRA3, позволяющая осуществлять перенос препарата в вакууме при криогенной температуре без контаминации между сканирующим электронным микроскопом и системой замораживания-скалывания и напыления. 

Ручная или автоматическая подача ножа шаговым двигателем - в диапазоне от 1 мкм до 40 мкм; 
Универсальный нож с прецизионным позиционированием, позволяющий работать одновременно с тремя образцами; 
Два независимо управляемых электронно-лучевых источника для создания многослойных реплик за один цикл; 
Электронное управление углами пучков источников - от 0° до 90°; 
Низкий угол затенения для высокачественного покрытия очень малых структур, таких как ДНК – до 0°; 
Вращение образцов во время нанесения покрытия; 
Предварительная настройка отдельных параметров электронных пучков испарителей; 
Использование напыления Pt-C, Ta-W, Cr, Pt-Ir-C или C; 
Точный автоматический контроль толщины пленки и прекращения напыления – регулируется до 1 нм; 
Функции запоминания параметров для нанесения не менее 5-ти слоев с независимыми значениями толщины; 
Программируемая последовательность нанесения нескольких слоев покрытия; 
Встроенная библиотека для нескольких материалов покрытия; 
Активная насосная система непрерывной дозированной подачи жидкого азота без колебаний температуры 
Турбомолекулярный и мембранный насос с прецезионной диафрагмой для создания "безмасляного" вакуума 
Глубокий вакуум с контролем и отображением параметров на дисплее 
Механизм предохранения образцов от загрязнений 
Сублимация при низкой температуре вплоть до температуры жидкого азота. 
Функция быстрой подачи LN2 (жидкого азота) в реакционную зону 
Программируемые параметры нанесения покрытия 
Светодиодная подсветка 

Стереомикроскоп для наблюдения за пробоподготовкой образца: 
- общее увеличение в диапазоне от 3.2х до 20х; 
- поле на объекте в диапазоне от 11.5 мм до 71.9 мм. 

Дополнительно: ссылка на сайт компании производителя http://www.leica-microsystems.com/products/electron-microscope-sample-preparation/industrial-materials/freeze-etchingfracture/details/product/leica-em-baf060/