Устройство плазменной чистки образцов Jeol JIC-410

Прибор может быть использован для очистки держателей ПЭМ от углеводородных загрязнений 

Размещение: василеостровская площадка

Статус: оборудование недоступно

jeol-jic410.jpg

Основные технические характеристики

Тип электрода 

горизонтальный

Давление

1~102Па

Материал мишени 

Углерод 

Напряжение

Регулируемое

Таймер

1~10сек

Вакуумная помпа

10 л/мин 

Принцип работы

Использование тлеющего разряда для плазменной очистки образца в ПЭМ держателе от углеводородных загрязнений 

Требования к образцам

Образцы должны быть смонтированы на стандартных ПЭМ сеточках диаметром 3мм, и установлены в держатель для образцов